光纤及其制造技术分析

　光纤通信技术的飞速发展，加快了“光速经济”的到来。为了适应通信技术和Internet的高速发展对超高妈速、超宽带宽、超大容量的通信系统的要求，除了需要研制出更好的光纤无源器件和有源器件外，还需要开发出超低损耗、长波长工作窗口的新型光纤材料，以及更合理的新型光纤结构和精良的制造工艺。（管内CVD(化学汽相沉积)法、棒内CVD(化学汽相沉积)法、PCVD(等离子体化学汽相沉积)法以及VAD(轴向汽相沉积)法都是正确的光纤制作方式。
 
　　光纤材料
 
　　以SiO2材料为主的光纤，工作在0.8μm-1.6μm的近红外波段，目前所能达到的最低理论损耗在1550nm波长处为0.16dB/km，已接近石英光纤理论上的最低损耗极限。如果再将工作波长加大，由于受到红外线吸收的影响，衰减常数反而增大。因此，许多科学工作者一直在寻找超长波长(2μm以上)窗口的光纤材料。这种材料主要有两种，即非石英的玻璃材料和结晶材料，晶体光纤材料主要有AgC1、AgBr、KBr、CsBr以及KRS-5等，目前AgC1单晶光纤的最低损耗在10.6μm波长处为0.1dB/km。因此，需要寻求新型基体材料的光纤，以满足超宽带宽、超低损耗、高码速通信的需要。
 
　　氟化物玻璃光纤是当前研究最多的超低损耗远红外光纤，它是以ZrF4-BaF2、HfF4-BaF2两系统为基体材料的多组分玻璃光纤，其最低损耗在2.5μm附近为1×10(的负三次方)dB/km，无中继距离可达到1×10(的5次方)km以上。1989年，日本NTT公司研制成功的2.5μm氟化物玻璃光纤损耗只有0.01dB/km，目前ZrF4玻璃光纤在2.3μm处的损耗达到外0.7dB/km，这离氟化物玻璃光纤的理论最低损耗1×10(的负三次方)dB/km相距很远，仍然有相当大的潜力可挖。能否在该领域研制出更好的光纤，对于开辟超长波长的通信窗口具有深远的意义。
 
　　硫化物玻璃光纤具有较宽的红外透明区域(1.2-12μm)，有利于多信道的复用，而且硫化物玻璃光纤具有较宽的光学间隙，自由电子跃迁造成的能量吸收较少，而且温度对损耗的影响较小，其损耗水平在6μm波长处为0.2dB/km，是非常有前途的光纤。而且，硫化物玻璃光纤具有很大的非线性系数，用它制作的非线性器件，可以有效地提高光开关的速率，开关速率可以达到数百Gb/s以上。
 
　　重金属氧化物玻璃光纤具有优良的化学稳定性和机械物理性能，但红外性质不如卤化物玻璃好，区域可透性差，散射也大，但若把卤化物玻璃与重金属氧化物玻璃的优点结合起来，制造成性能优良的卤-重金属氧化物玻璃光纤具有重要的意义。日本Furukawa电子公司，用VAD工艺制得的GeO2-Sb2O3系统光纤，损耗在2.05μm波长处达到了13dB/km，如果经过进一步脱OH-的工艺处理，可以达到0.1dB/km。
 
　　聚合物光纤自19世纪60年代美国杜邦公司首次发明以来，取得了很大的发展。1968年杜邦公司研制的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)阶跃型塑料光纤(SI POF)，其损耗为1000dB/km。 1983年，NTT公司的全氘化PMMA塑料光纤在650nm波长处的损耗降低到20dB/km。由于C-F键谐波吸收在可见光区域基本不存在，即使延伸到1500nm波长的范围内其强度也小于1dB/km。全氟化渐变型PMMA光纤损耗的理论极限在1300nm处为0.25dB/km，在1500nm处为0.1dB/km，有很大的潜力可挖。近年来，Y.KOIKE等以MMA单体与TFPMA(四氟丙基丙烯酸甲酯)为主要原材料，采用离心技术制成了渐变折射率聚合物预制棒，然后拉制成GI POF(渐变折射率聚合物光纤)，具有极宽的带宽(>1GHz·km)，衰减在688nm波长处为56dB/km，适合短距离通信。国内有人以MMA及BB(溴苯)、BP(联苯)为主要原材料，采用IGP技术成功地制备了渐变型塑料光纤。日本NTT公司最近开发出氟化聚酰亚胺材料(FULPI)在近红外光内有较高的透射性，同时还具有折射率可调、耐热及耐湿的优点，解决了聚酰亚胺透光性差的问题，现已经用于光的传输。聚碳酸酯、聚苯乙烯的研究也在不断的进行中，相信在不久的未来更好性能的聚合物光纤材料得到开发和利用。
 
　　特殊的环境对光纤有特殊的要求，石英光纤的纤芯和包层材料具有很好的耐热性，耐热温度达到400-500℃，所以光纤的使用温度取决于光纤的涂覆材料。目前，梯型硅氧烷聚合物(LSP)涂层的热固化温度达400℃以上，在600℃的光传输性能和机械性能仍然很好。采用冷的有机体在热的光纤表面进行非均匀成核热化学反应(HNTD)，然后在光纤表面进行裂解生成碳黑，即碳涂覆光纤。碳涂覆光纤的表面致密性好，具有极低的扩散系数，而且可以消除光纤表面的微裂纹，解决了光纤的“疲劳”问题。
 
　　新型结构的光纤
 
　　光纤的结构决定了光纤的传输性能，合理的折射率分布可以减少光的衰减和色散的产生。为了改善光纤的波导性能，特别是既想获得低损耗，又想具有低色散，以适应长距离、大容量通信的要求，可以对光纤的结构进行设计，控制折射率的分布。如采用三角形折射率分布的结构：区配包层、凹陷包层、四包层结构，加大波导色散，从而使零色散波长产生位移，设计出了DSF(色散位移光纤)，即G.653光纤，它把零色散波长搬到1550nm的最低损耗窗口，使光纤的损耗特性与色散特性得到了优化组合，提高了光纤通信系统的传输性能。
 
　　G.653光纤在1550nm处的色散为零，给WDM(波分复用)系统带来了严重的FWM(四波混频)效应，为了克服DSF的不足，人们对DSF进行了改进，通过设计折射率的剖面，对零色散点进行位移，使其在1530-1565nm范围内，色散的绝对值在1.0-6.0ps/(nm·km)，维持一个足够的色散值，以抑制FWM、SPM(自相位调制)及XPM(交叉相位调制)等非线性效应，同时色散值也足够小，以保证单通道传输速率为10Gb/s，传输距离大于250km时无需进行色散补偿。这种光纤即为NZDSF(非零色散位移光纤)，ITU-T称之为G.655光纤。
 
　　第一代G.655光纤主要为C波段(1530-1565nm)通信窗口设计的，主要有美国Lucent公司的True　Wave和Corning公司的SMF-LS光纤，它们的色散斜率较大。随着宽带宽光放大器(BOFA)的发展，WDM系统已经扩展到L波段(1565-1620nm)。在这种情况下，如果色散斜率仍然维持原来的数值(0.07-0.10ps/(nm2·km))，长距离传输时短波长和长波长之间的色散差异将随着距离的增加而增大，势必